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JK-CH600190-XRD冷热台

JK-CH600190-XRD冷热台

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JK-CH600190-XRD冷热台是一种安装在X-射线衍射仪上研究样品变温X-射线衍射的附件。产品采用液氮致冷、电阻加热的方式,提供-190~600℃(选型)或RT~1000℃(选型)温度范围内的气氛/真空测试环境。适合于粉末、片材样品在变温下进行X-射线结构研究,适配现有各种X-射线衍射仪(布鲁克、赛默飞、理学等)。

JK-CH600190-XRD冷热台的详细资料:

JK-CH600190-XRD冷热台

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JK-XRD原位冷热台是一种安装在X-射线衍射仪上研究样品变温X-射线衍射的附件。产品采用液氮致冷、电阻加热的方式,提供-190~600℃(选型)或RT~1000℃(选型)温度范围内的气氛/真空测试环境。适合于粉末、片材样品在变温下进行X-射线结构研究,适配现有各种X-射线衍射仪(布鲁克、赛默飞、理学等)。

产品需要与温度控制器、致冷控制器(选配)配套使用,配套的上位机温控软件方便进行温度设置及采集,提供的Labview Vis方便客户进行定制化编程。

 产品特点:

温度范围-190~600℃(选型)/RT~1000℃(选型)

温度稳定性±0.1℃(<600℃)±1℃(>600℃)

衍射角0~164°

X射线视窗Kapton膜

支持反射/透射模式

密腔室设计,可升级真空腔室(10^(-3) mBar)

可更换上盖,作为普通冷热台使用

可调节高度,满足不同厚度样品测试更换上盖,可用作光学冷热台,实现一机多用

详细参数一览表:

XRD原位冷热台

JK-CH600190XV

JK-H1200XV

温控模块

冷热方式

液氮致冷,电阻加热

电阻加热

温控范围

-190~600℃ *

RT~1200℃ *

温度稳定性

±0.1℃(<600℃),±1℃(>600℃)*

温度分辨率

0.1℃

升降温速率

0~30℃/min(可定点 / 程序段控温)

温控方式

PID

温度传感器

PT100 

热电偶

光学特性

光路

反射 *

X射线透射膜

Kapton膜

结构特性

样品台尺寸

23×23mm *

12x12mm *

样品台材质

银质 *

陶瓷 *

外形尺寸

100×100×73mm *

腔室

真空

外壳冷却

循环水

基本配置

XRD原位冷热台x1、温度控制器x1、致冷控制器x1(低温配置)、液氮罐x1(低温配置)、定制支架x1、温控软件x1、循环水系统x1、连接管路若干

选配

电脑主机/定制温控软件/定制光学盖板

备注

以上均为默认参数    * 为可定制项

其他可选型号

CH400-100-X(-100~400℃)

产品应用:

搭配理学X射线衍射仪 ↓

搭配理学X射线衍射仪.jpg

 

搭配赛默飞X射线衍射仪 ↓

搭配赛默飞X射线衍射仪.jpg 

搭配布鲁克X射线衍射仪 ↓

搭配布鲁克X射线衍射仪.jpg



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