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HTR-01 桌式4英寸快速退火炉

HTR-01 桌式4英寸快速退火炉

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HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术,可实现1-10片样品同时进行,可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。

主要应用领域:

快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RT

HTR-01 桌式4英寸快速退火炉的详细资料:

HTR-01 桌式4英寸快速退火炉

  

HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术,可实现1-10片样品同时进行,可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。

主要应用领域:

快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);离子注入/接触退火;

金属合金;

热氧化处理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

太阳能电池片退火;高温退火;

高温扩散。

产品特点

● 快速加热和降温: 最高可控升温速率可达50 ℃/s,特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率,特定条件下可达30 ℃/s。

● 精确控温: 采用工业级温控器进行PID精确控温,目标温度与设定温度曲线一致性高,可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。

● 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理(氮气、氩气等)。同时,通过选配真空泵,可以在真空条件下进行退火,最高真空度可达10-5Pa。

● 配备观察窗口: 通过观察窗口,可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时,可以结合相关测试方法进行原位测试分析。

● 超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统,保障仪器使用安全。

● 售后服务:,能快速反应客户售后需求。



最大样品尺寸

4英寸(直径20mm)

控温范围

RT~1200

升温速率(max)

50℃/s

高温段降温速率(max)

600℃/min

温度均匀性

≦1%

控温精度

±0.1℃

气体流量

标配1路,可扩展至多路

放样管径

Ф210mm*320mm

放样数量

          4-10个

真空度

   真空度可以达到10-5

    控制方式

支持真空、氧化、还原、惰性气体等工艺气氛,也可设置通过软件控制真空及通气时间




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